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NK-800系列激光過程氣分析系統是基于半導體激光吸收光譜（DLAS）技術的過程氣體分析系統，能夠在各種環境（尤其是高溫、高壓、高粉塵、強腐蝕等惡劣環境下）進行氣體濃度等參量的在線測量，并具有準確性高、相應速度快、可靠性高、運行費用低等特點，為生產優化、能源回收、安全控制、環保監測和科研分析帶來極大的方便，在鋼鐵冶金、石油化工、環境保護和能源電力等行業已得到廣泛的應用。
激光氣體分析儀原理：
半導體激光吸收光譜技術—利用激光能量被氣體分子“選頻"吸收形成吸收光譜的原理來測量氣體濃度。半導體激光器發射出特定波長激光束（僅被被測氣體吸收），穿過被測氣體時，激光強度的衰減與被測氣體濃度成一定函數關系，因此，通過測量激光強度衰減信息就可以分析獲得被測氣體的濃度。
激光過程氣分析系統特點：
1、無需采樣，現場測量
2、響應速度快（<2秒）
3、測量精度高（≤±1%）
4、不受背景氣體交叉干擾
5、自動修正粉塵及光學視窗污染影響
6、結構簡單緊湊、可靠性高，操作維護方便，運行費用低
7、模塊化設計，可現場更換所有功能模塊
8、安裝方式靈活（可選抽取式、原位式）
9、不受背景氣體交叉干擾的影響
10、自動修正粉塵和視窗污染對測量濃度的影響
11、消除氣體環境參數（溫度和壓力等）變化對測量的影響
激光原理不同氣體測量參數：
氣體 | 測量精度 | 測量范圍 |
O2 | 100ppm | 0-1% Vol.,0-100%Vol. |
C O | 10 ppm | 0-1000ppm,0-100%Vol. |
C O2 | 10 ppm | 0-2000ppm,0-100%Vol. |
H2O | 0.3 ppm | 0-10ppm,0-100%Vol. |
H2S | 20 ppm | 0-200ppm,0-100%Vol. |
HF | 0.02 ppm | 0-1ppm,0-100%Vol. |
HCl | 0.1 ppm | 0-7ppm,0-100%Vol. |
HCN | 0.3 ppm | 0-20ppm,0-1%Vol. |
NH3 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-100%Vol. |
CH4 | 0.4 ppm | 0-200ppm,0-100%Vol. |
C2H2 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-100%Vol. |
C2H4 | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-100%Vol. |
C H3l | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-100%Vol. |
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